中微公司首台 8 英寸 CCP 刻蚀机 Primo AD-RIE 200 顺利付运
6 月 15 日信息 本日，中微半导体装备（上海）股分有限公司（简称“中微公司”）首台 8 英寸甚高频去耦合反馈离子（CCP）刻蚀装备 Primo AD-RIE 200 顺利付运客户制造线。
中文国外得悉，Primo AD-RIE 200 是中微公司自立研发的新一代 8 英寸甚高频去耦合反馈离子（CCP）刻蚀装备。基于已被业界广泛承认的 12 英寸 CCP 刻蚀装备的成熟工艺与特征，Primo AD-RIE 200 在技术创新和制造服从方面都有了进一步提升，可以或许满足差别客户 8 英寸晶圆的加工需要。
为进步制造服从，Primo AD-RIE 200 刻蚀装备可天真建设多达三个双反馈台反馈腔（即六个反馈台）。此外，Primo AD-RIE 200 供应了可晋级至 12 英寸刻蚀装备体系的天真办理计划，以满足客户制造线未来大概扩产的需要。
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