南大光电 ArF 光刻胶产品再次通过客户认证
6 月 1 日信息，江苏南大光电质料股份有限公司公布宣布称，宁波南大光电质料有限公司（如下简称“宁波南大光电”）自立研发的 ArF 光刻胶产品继 2020 年 12 月在一家存储芯片生产企业的 50nm 闪存领域上通过认证后，即日又在逻辑芯片生产企业 55nm 技术节点的产品上获得了认证冲破。
据悉本次认证系选定客户 55nm 技术节点逻辑芯片产品的工艺举行考证，宁波南大光电研发的 ArF 光刻胶的尝试良率后果合乎请求，表明其具备 55nm 领域后段金属布线层的工艺请求。
ArF 光刻胶质料是集成电路生产领域的紧张环节质料，能够用于 90nm-14nm乃至 7nm 技术节点的集成电路生产工艺。广泛使用于高端芯片生产（如逻辑芯片、存储芯片、AI芯片、5G芯片和云计较芯片等）。ArF 光刻胶的市场远景好于预期。跟着国内 IC 行业的疾速开展，自立创新和国产化措施的加迅速，以及优秀制程工艺的使用，将大大拉动光刻胶的用量。
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