北方华创刻蚀机 1000 腔顺利交付：12 英寸已实现客户端 28nm 国产化替代
中文国外 12 月 11 日信息 据朔方华创官方公布，12 月 1 日，朔方华创 lCP 刻蚀机 1000 腔交付仪式在亦庄基地谨慎举办。
中文国外得悉，朔方华创公司于 2001 年景立，首先组建团队钻研刻蚀技术，2004 年首台装备完成胜利起辉，2005 年初次台 8 英寸 ICP 刻蚀机在客户端上线，并于 2007 年获取国度科学技术进步二等奖。
在集成电路平台获取冲破的同时，朔方华创在积极将刻蚀技术横向拓展，当前使用平台已笼盖集成电路、LED、优秀封装、功率半导体、MEMS、化合物半导体、硅基微显等多个平台。12 英寸 ICP 刻蚀机在完成客户端 28nm 国产化替换同时，在 14/7nm SADP/SAQP、优秀存储器、3D TSV 等工艺使用中也发挥偏重要好处。
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