英伟达安培显卡爆料：全线支持光线追踪，采用三星10nm工艺
3月12日信息 凭据外媒WCCFTECH的报道，爆料信息称英伟达的下一代GPU架构将基于三星10nm制程，而不是以前报道的台积电7nm工艺，据称应用的10nm制程更靠近于三星供应的8LPP技术，另外新的Tegra芯片也将应用相像的制程。
外媒显露，英伟达安培架构暴光的GPU有GA102、GA103、GA104、GA106和GA107 5款，建设非常高的是GA102。报道还称英伟达新款GPU将一切支持RTX(及时亮光跟踪)，这意味着英伟达在安培架构上对RT焦点计划举行晋级，使其在性能较弱的显卡中也能完成亮光追踪的结果。
爆料者@CorgiKitty供应的信息表现，建设非常低的GA107为1280流处分器，4GB显存，非常高的GA102 GPU为5376流处分器，12GB显存，其中GA102比上代的RTX 2080Ti性能提升了40%。
中文国外曾报道，受到疫情的影响，英伟达曾揭露将月尾GTC的大会改成线上直播。凭据外媒anandtech的非常新信息，GTC线上直播也将取消，英伟达将会接纳信息稿的模式发布新品，时间定在3月24日。
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