英伟达有望明年上半年推出“安培”显卡：7nm工艺，更强的光线追踪
10月5日消息 凭据外媒OC3D的报道，英伟达大概决策在2020年上半年推出下一代安培架构系列显卡，同时接纳更优秀的7nm工艺，亮光追踪的性能估计也将会增强。
▲图自OC3D
据报道，英伟达将于2020年1H公布新一代的图形架构，除了7nm工艺以外，下一代图形架构流出的消息还非常少。
外媒估计，7nm工艺安培显卡将使英伟达回到其传统的显卡公布节拍中，开始，他们将公布一款高端（不过不是顶级）的产品，非常有不妨一款性能靠近RTX 2080 Ti的显卡，但价格会更低，功耗也会降落。估计首批产品的型号将为RTX 3070/RTX 3080，而后其次批产品将会是RTX 3060和低端显卡。
外媒觉得，安培架构有望带来架构改善，进步亮光追踪性能，同时应用更新的节点工艺增长晶体管密度，进步显卡的每瓦性能，概括性能会超过AMD当前的RDNA架构。
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