三星5nm工艺有望2020年量产：逻辑效率比7nm提高25％
7月9日信息 凭据AnandTech的报道，三星晶圆厂曾经认证了Cadence和Synopsys的全流程工具，该工具接纳了极紫外光刻（EUV）的5LPE工艺技术。
三星晶圆厂应用Arm Cortex-A53和Arm Cortex-A57内核认证了用于5LPE技术的Synopsys配备计划领域以及Cadence全流程数字工具。该认证意味着这些工具满足三星晶圆厂请求。
三星的5LPE技术依附于具有新规范单位架构的FinFET晶体管，并应用DUV和EUV步进扫描体系。与7LPP比拟，新技术的“逻辑服从”进步了25％，芯片开辟职员可将芯片计划的功耗低落20％或将性能进步10％。
由三星认证的Candence和Synopsys的工具集包含编译器、考证器、电源电路优化器以及EUV专用工具。
由于三星的5LPE比其7LPP工艺应用更多的EUV层，所以估计它将用于三星华城的EUV工厂。该制造线将耗资6万亿韩元（46.15亿美元），估计将于今年年落成，并于2020年首先大批量制造。
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