1纳米可期！ASML研发其次代EUV光刻机
半导体例造过程当中非常繁杂也是非常难的步调即是光刻，光刻机也因此成为非常紧张的半导体例造装备。在7nm制程的较量中，台积电之因此可以或许当先，一个非常紧张的缘故即是EUV技术，在半导体例造的工艺中，这片面的老本就能占到33%摆布。
当前非常先进的光刻机即是来自这家ASML公司制造的EUV光刻机，每台售价超过1亿美元，并且求过于供。ASML的要紧客户为环球一线的晶圆厂，除了英特尔、三星和台积电这三大巨擘以外，国内的中芯国外也是ASML的客户。
有外媒报道称，ASML公司当前正积极投资研发新一代EUV光刻机，和往代的比拟，新款EUV光刻机非常大的变化即是高数值孔径透镜，通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辩率、套准精度两大光刻机焦点目标提升70%，到达业界对几何式芯片微缩的要求。以前ASML发布的新一代EUV光刻机的量产时间是2024年，但是非常新报道称下一代EUV光刻机是2025年量产，这个时间上台积电、三星都曾经量产3nm工艺了。
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