三星 SSIR 携手印度科学学院 IISc 推动半导体研发，降低因 ESD 器件而导致的 IC 和 SoC 故障
2 月 9 日音讯，三星印度半导体颁布发表，三星半导体印度研讨院（SSIR）取印度迷信教院（IISc）将联袂推进印度的半导体研收。SSIR 战 IISc 之间的协作将有助于增进片上静电开释 (ESD) 维护范畴的研讨。民圆通告环绕构建 ESD 器件（静电阻抗器）以维护初级 IC 战 SoC 产物中的超下速串止接心睁开。
三星 SSIR 暗示，取 IISc 的协作将有助于增进半导体立异战开辟 ESD 常识。目的是经过研讨死级此外培训方案增强才能建立，为先生供给止业练习时机，并鼓舞年老研讨职员创业。
取三星半导体印度研讨院 (SSIR) 战印度迷信教院 (IISc) 之间的和谈相干的研讨将由 IISc 电子零碎工程系 (DESE) 的 Mayank Shrivastava 传授小组实施。中文国际理解到，此次协作的次要目标是加重由 ESD 毛病惹起的 IC 战 SoC 芯片毛病战返工。
增强研收，为牢靠、低功耗战下速运转的 IC 战 SOoC 构建 ESD 将是此次协作的议程。IISc 是天下上为数未几的处置 ESD 器件研讨的机构之一。
MSDLab 担任人 Mayank Shrivastava 传授道：“我们不断正在取环球半导体止业便先辈的纳米电子手艺停止普遍协作，包罗针对先辈 SoC 的 ESD 牢靠性要挟的处理计划。我们对 ESD 维护器件停止了根底研讨战使用研讨，重面是正在一系列手艺节面上为半导体止业发明适用的处理计划。”
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