7月12日信息据外媒Neowin信息，韩国芯片制造商SK海力士本日揭露，曾经行使EVU极紫外光光刻机，研发出1anm芯片制造工艺。这项技术比拟今年年推出的1znm工艺，密度更大，制成的芯片功耗更低。官方显露，该技术能够在相像的晶圆面积下，获取多达25%的芯片产量提升。海力士1anm技术能够使得当前智……