媲美光学光刻，日本学者紫外硬化纳米压印实现 10 纳米以下分辨率
8月22日信息，据外媒信息，佳能RF卡口的300毫米F2.8LISUSM镜头曾经进入尝试阶段，估计将于2023年上半年推出。▲佳能EF卡口300毫米F2.8信息称，佳能新款RF300毫米F2.8LISUSM“新手炮”比拟EF卡口更轻也更短，其重量比单反版本轻了40%，长度也短了30%。中文国外曾报道……
比亚迪电子：与 OPPO 共同研发 Reno7 系列星雨光刻工艺，打造出 8 微米光刻精度纹理图案
11月26日消息，昨日，斩新OPPOReno7系列正式公布，领有星雨宿愿、晨曦金/暮雪金、星夜黑等3款配色。其中，“星雨宿愿”后盖接纳行业独创的航天级星雨光刻工艺，领有120万道的流星雨纹理，辅以星空般的配色设计。本日，比亚迪电子显露，星雨光刻工艺由OPPO与比亚迪电子共同研发，接纳LDI（激光直写……
国产光刻机初次股：华卓精科科创板过会，与清华共享专利
芯器械9月17日报道，本日，北京华卓精科科技股分有限公司（以下简称“华卓精科“）于科创板胜利过会。华卓精科主开业务为超严紧测控装备，产物包含严紧行动体系、光刻机双工件台模块、静电卡盘、晶圆级键合装备、激光退火装备等，要紧应用于集成电路制造、超严紧制造、光学、医疗等行业。光刻机工件台是光刻机的3大焦点……
晶瑞电材：公司光刻胶产品达到国际中超级水准
8月25日，晶瑞电材在投资者互动领域显露，公司光刻胶产品到达国外中超凡水准，在国内具有深远荣誉，巩固制造光刻胶近三十多年，是国内非常早范围量产光刻胶的企业之一。光刻胶是国外上技术门槛非常高的微电子化学品之一，高端产品的研发和制造要紧由日系JSR、信越化学、东京应化等少数公司所把持。晶瑞电材指出，公司……
南大光电 ArF 光刻胶产品再次通过客户认证
6月1日信息，江苏南大光电质料股份有限公司公布宣布称，宁波南大光电质料有限公司（如下简称“宁波南大光电”）自立研发的ArF光刻胶产品继2020年12月在一家存储芯片生产企业的50nm闪存领域上通过认证后，即日又在逻辑芯片生产企业55nm技术节点的产品上获得了认证冲破。据悉本次认证系选定客户55nm技……
ASML（阿斯麦）已基本完成 1nm 光刻机设计
关联阅读：《》11月30日消息摩尔定律还没有结束。日媒报道，因为新型冠状病毒的传布，近期日本ITF于11月18日在日本东京举办了网上公布会。IMEC公司首席执行官兼总裁LucVandenhove首先刊登了主题演讲，说明了公司研究概略，他夸大通过与ASML公司慎密同盟，将下一代高分辩率EUV光刻技术—……
消息称台积电斥资 440 亿元采购 EUV 光刻机，官方回应：不评论传闻
10月1日信息此前据台媒DigiTimes报道，台积电加速优秀制程推进，近期扩展释单，累计EUV机台至2021年关将跨越50台。报道指出，相较之下，三星电子2021年还不到25台，同时EUVPOD（光罩传送盒）采购量远低于预期。据财联社报道，台积电方面临此复兴称：公司不批评市场听说。据打听，一台EU……
全球首台！苏大维格大型紫外 3D 直写光刻设备 iGrapher3000 投入运行
7月28日消息苏大维格科技官方揭露，大型紫外3D直写光刻装备iGrapher3000下线并投入工业运转。iGrapher3000要紧用于大基板上的微纳布局描写的3D光刻，是新颖质料、优秀光电子器件的计划、研发和生产的斩新平台，号称为光电子家当基石性装备，为家当同盟缔造新时机。从集成电路图形的平面光刻……
13 亿元！全新光刻机及光刻材料项目签约西安高陵
6月9日信息据i高陵官方公布，6月5日，总投资13亿元的上海博康光刻机及光刻质料项目正式签大概落户高陵。中文国外打听到，上海博康光刻装备及光刻质料项目总占地200亩，总投资13亿元，满产后年产值20亿元以上，年贡献税收1亿元以上。上海博康落户高陵，将弥补西安市半导体光刻平台家当的空缺，也将迷惑电子信……
中芯国际 14nm 芯片火热量产，高端光刻机缺位 7nm 研发进展滞缓
5月26日信息中文国外此前报道，，并由名誉Play4T搭载预装，“麒麟710A”是由中芯国外实现芯片代工制造关节，接纳14nm制程工艺，主频2.0GHz，属于此前麒麟710的降频版。“麒麟710A”代表实在现国产化零的冲破，是中国半导体芯片技术的破冰之举。据《IT时报》近期报道，中芯国外作为国内唯独……